炭化ケイ素(SiC)セラミックスをはじめ各種セラミックスの製造加工販売メーカー アスザックファインセラミックス事業部
振動磨耗に強い材料です。硬度、熱伝導率等の特性は物性表をご覧下さい。
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 炭化ケイ素(SiC)




SiC(炭化ケイ素)のチャック、多孔質もできます!!



 炭化ケイ素(SiC)の特徴

ダイヤモンド、炭化ホウ素に次ぐ硬さを持ち、耐摩耗性が高いため、摺動部品(メカニカルシールなど)に使用されています。
また、ヤング率が高く、熱膨張係数が小さいことから、高精度を必要とする部品(光学部品、基板など)に使用されています。緻密な焼結体ですので、鏡面加工ができます。

1400℃以上の高温にも耐え、熱衝撃にも強く、化学的安定性も非常に優れています。
アスザックは大型製品、SiCハンド、SiCさや、薄板製品および板厚の厚い製品の製造を得意としております。

高純度SiC(高純度炭化ケイ素)も製造しており、半導体製造装置用部品に採用されています。

多孔質SiC(porous SiC)については多孔質セラミックスのページをご覧下さい。

製品写真 炭化ケイ素  製品写真 炭化ケイ素

製品写真 炭化ケイ素
炭化ケイ素 セラミックス製品一例



 炭化ケイ素(SiC)はこのような用途・目的に使われています!!
半導体製造装置やLED製造装置などのチャンバー内部品、エッチング装置用基板トレーや、焼成用治具(コンデンサー他) などに使われています。

 炭化ケイ素(SiC)のこんな特長が生かされています!!
耐熱性(1,400度以上でも)や耐薬品性(耐プラズマ性)、耐磨耗熱伝導率の良さ、緻密さ、強度が生かされています。

 アスザックは他にもこんな使い方をご提案します!!
SiCでの薄型製品化が可能ですから、熱効率が良く、トレーやセッターとしてご利用を検討下さい。
電子基板用の焼成炉セッターなどに、薄いSiC板での対応が可能です。


アスザックでは、一般的な炭化ケイ素(SiC) (弊社ではASiCというオリジナル名を付けております)の他に、高純度炭化ケイ素(SiC3N)のグレードも用意してございます。
以下にそれぞれの違いと、高純度炭化ケイ素(SiC3N)の特長と詳細がございますので、用途に応じてお選びください。



高純度炭化ケイ素(SiC3N)

炭化ケイ素SiC
高純度炭化ケイ素(SiC3N)とは、上記炭化ケイ素(SiC)の純度が99.9%のものです。
通常の炭化ケイ素では汚染が気になるなどの用途に適しています。
常圧焼結での作製なので成膜法より安価です。

右の写真は、φ360のSiCリングです

厚い物や大型品にも対応可能です。


【 重金属分比較 】
  ASiC SiC3N
  ppm ppm
Al 87 20 より少ない
Ti 150 10 より少ない
V 110 1 より少ない
Fe 66 5 より少ない

重金属分比較



大型炭化ケイ素(SiC)

大型アルミナ製品が得意なアスザックですが、大型SiC製品も対応しております。
写真の製品はφ550×φ500×80hです。
アルミナでもSiCでも大型製品にお困りでしたら、是非お問合せください。

大型炭化ケイ素


【 炭化ケイ素 他 物性一覧 】
  ASiC SiC3N アルミナ コルシード アルシーマ
純度 - 99.9 99.6 - -
色調 - 黒色 黒色 象牙色 黒灰色 灰色
密度 g/cm3 3.14 3.19 3.94 4.24 2.41
機械 曲げ強さ MPa 410 450 370 310 146
ヤング率 GPa 430 446 390 288 115
硬度 GPa
28.0
28.0
14.7 10 6.5
ポアソン比 0.17 0.17 0.24 0.27 0.29
破壊靭性
(SEVNB法)
MPa m1/2 2~3 2~3 4 3 1.4
熱膨張率 x10-6
[常温~800℃]
4.1 4.1 7.7 8.8 2.1
熱伝導率 W/(m・K)
170
140
32 5.5 2.9
比熱 J/(kg・K) 0.68×103 0.57×103 0.78×103 0.67×103 0.75×103
電気 誘電率 [1MHz] 10.2 - 4.8
誘電正接 tanδ x10-4[1MHz] 70 - 50
体積抵抗率 Ω・cm 5×106 5×108 >1015 1 >1014
耐電圧 kV/mm 13 - 14.5
反射率
[波長240~2,600nm,
測定面Ra0.8程度]
11.1~25.1
17~31
- 10.0~26.6 -
特徴・用途等   高耐熱性
高強度
耐磨耗性
高耐熱性
高強度
耐磨耗性
高強度
絶縁性大
耐磨耗性
導電性
(高温では
還元雰囲気
での使用)
低熱膨張率
高耐熱
衝撃性
低熱伝導性
断熱材


【 炭化ケイ素 アスザックと他社製造法との物性比較例 】
メーカー   アスザック アスザック A社 B社 C社
製品名   ASiC SiC3N
製造方法   常圧焼結 常圧焼結 ホットプレス CVD Si-SiC
密度 g・cm3 3.15 3.18 3.15 3.21 3.05
ビッカース硬度   28 28 22 26
曲げ強度 Mpa 410 450 600 590 220
弾性率 Gpa 430 430 390 450 280
破壊靭性 Mpa/cm^0.5 2.5 2.5 4.4
熱膨張率 E-6/K 4.1 4.1 4.3 4 4.8
熱伝導率 W/m・K 170 140 230 250 225
※上記数値は参考値です。製品の形状や使用状態により異なる場合があります。
※反射率は光の波長によって異なります。詳細をご希望の方はお問い合わせ下さい。


SiC

ジルコニア・炭化ケイ素の他、アルミナの物性もまとめた一覧表はこちらをご覧ください。
pdf 公開物性一覧表 (PDF49kb)


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他にも下記の素材がございます。お客様の用途によってご利用・ご検討下さい。

 »炭化ケイ素よりも加工しやすく、低熱伝導率の素材をお求めの方は、アルミナ がおすすめです。

 »炭化ケイ素よりも低熱伝導で、加工しやすく、高破壊靭性の素材をお求めの方は、ジルコニア がおすすめです。

 »炭化ケイ素よりも体積抵抗率がほとんどなく、導電性がある素材をお求めの方は、導電性コルシード がおすすめです。

 »炭化ケイ素より熱衝撃に強く、耐熱性の素材をお求めの方は、アルシーマL がおすすめです。

 »炭化ケイ素の中でも気孔があって軽く、気孔率が調整可能な素材をお求めの方は、 多孔質セラミックス がおすすめです。

 »他の素材をお求めの方は、その他 をご覧下さい。

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